发明名称 蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置
摘要 本实用新型公开了一种蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置,包括下座体和上座体,所述上座体包括底座和位于底座上的喷头;所述下座体的一侧端和底座的一侧端通过铰接件相连,下座体的另一侧端和底座的另一侧端通过紧固件相连;所述下座体具有顶面空腔,所述底座具有底面空腔,顶面空腔和底面空腔形成用于贯穿入介质管道的管体容纳腔;所述喷头沿铅垂线方向开设有与底面空腔相贯通的介质通道,介质通道的轴线方向与管体容纳腔的轴线方向相垂直,靠近底面空腔的介质通道的尺寸与位于管体容纳腔中的介质管道上的介质输出孔相匹配。有益效果:采用垂直喷向板面的除胶方式,将线路间干膜清洗干净,大幅降低残留干膜不良率,减少油墨杂质不良。
申请公布号 CN205761988U 申请公布日期 2016.12.07
申请号 CN201620488459.5 申请日期 2016.05.26
申请人 昆山沪利微电有限公司 发明人 周爱华
分类号 B05B15/06(2006.01)I;B08B3/00(2006.01)I 主分类号 B05B15/06(2006.01)I
代理机构 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人 朱妃;董建林
主权项 一种蚀刻线除胶段用于改善干膜残留的喷嘴装置,其特征在于:包括下座体和上座体,所述上座体包括底座和位于底座上的喷头;所述下座体的一侧端和底座的一侧端通过铰接件相连,下座体的另一侧端和底座的另一侧端通过紧固件相连;所述下座体具有顶面空腔,所述底座具有底面空腔,顶面空腔和底面空腔形成用于贯穿入介质管道的管体容纳腔;所述喷头沿铅垂线方向开设有与底面空腔相贯通的介质通道,介质通道的轴线方向与管体容纳腔的轴线方向相垂直,靠近底面空腔的介质通道的尺寸与位于管体容纳腔中的介质管道上的介质输出孔相匹配。
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