| 发明名称 | 一种与磁力支架相互配合的后壳结构 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种与磁力支架相互配合的后壳结构，包括后壳和能被磁力支架吸附的材料制成的吸附基片；后壳的内侧设有凹槽；吸附基片的厚度与凹槽的深度相同；吸附基片固定在凹槽内。采用本方案后：1、不影响对象的外观和使用。2、不需要外置吸附基片在对象表面，不影响使用其他支架。3、无需对外壳做改装。4、内侧开凹槽的设计让磁力支架能够将对象吸附固定牢固。5、凹槽与吸附基片相互配合，使用过程中吸附基片不会移位，减低了对象跌落摔坏的风险。6、对后壳的整体设计无任何影响。7、不会使对象内的零件产生不良影响。 | ||
| 申请公布号 | CN205793824U | 申请公布日期 | 2016.12.07 |
| 申请号 | CN201620750042.1 | 申请日期 | 2016.07.15 |
| 申请人 | 总汇国际有限公司 | 发明人 | 陈挺轩 |
| 分类号 | H05K5/02(2006.01)I | 主分类号 | H05K5/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人 | 张欢勇 |
| 主权项 | 一种与磁力支架相互配合的后壳结构，其特征在于：包括后壳和能够被磁力支架所吸附的材料制成的吸附基片；所述后壳的内侧设有凹槽；所述吸附基片的厚度与凹槽的深度相同；所述吸附基片固定在凹槽内。 | ||
| 地址 | 英属维尔京群岛托托拉岛罗德城海辉公司中心邮政信箱957号 | ||