一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置

摘要

本发明涉及一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置，用以解决目前常见的LTPS工艺或其他顶栅结构中制作的遮光层，会在沉积缓冲层时形成段差进而造成各种不良的问题。该方法包括：在衬底基板上形成一整层不透光的膜层；对膜层进行处理，使膜层上形成透光区域和不透光区域；其中，不透光区域与有源层的沟道区域对应；在处理后的膜层上形成薄膜晶体管。本发明的制作方法，在形成薄膜晶体管之前形成一整层不透光的膜层，使其形成透光区域和不透光区域，因而在一整层的膜层上沉积其它膜层时不会出现段差，因而也避免了由于段差而造成的其它各种不良的问题。

主权项

一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成一整层不透光的膜层；对所述膜层进行处理，使所述膜层上形成透光区域和不透光区域；其中，所述不透光区域与有源层的沟道区域对应；在处理后的膜层上形成薄膜晶体管。