发明名称 利用多元讯号之回应分析样品之方法
摘要 在一种藉分析装置分析未知组成试样之方法中,系调整一组分析度量值与一组参考度量值,各包含藉由第一个与第二个分析装置而得自一组试样之一组多元讯号回应,以移除与该装置有关联之操作变异性,于是提供经调整讯号回应之第一个与第二个矩阵。使已经调整讯号回应之两个矩阵之一,分解成包含一组主要因数之矩阵与包含和各主要因数有关联量之矩阵之矩阵乘积。建立压缩讯号回应矩阵乘积,其包含一个由主要因数组之子集所组成之矩阵,及一个由与被包含在子集中之各主要因数有关联量所组成之矩阵。自该后述矩阵,计算出投影矩阵。利用此投影矩阵与第一个正规化矩阵乘积,建立压缩正规化矩阵乘积,该第一个正规化矩阵乘积系包括正规化矩阵及经调整讯号回应之两个矩阵中之另一个。计算出使第一个正规化矩阵乘积与压缩正规化矩阵乘积间之差异降至最低之正规化矩阵之数值,于是产生最适宜之正规化矩阵。建立第二个正规化矩阵乘积,其包含最适宜之正规化矩阵,及已被分解成矩阵乘积之经调整讯号回应之一个矩阵。利用经调整讯号回应之另一个矩阵与第二个正规化矩阵乘积,建立一个可用于分析藉由第一个分析装置而得自未知组成试样之讯号回应之校准值,并将其应用至得自试样之讯号回应以测定其组成。
申请公布号 TW310366 申请公布日期 1997.07.11
申请号 TW085115566 申请日期 1996.12.17
申请人 伊士曼化学公司 发明人 丹尼尔查理斯亚斯麦耶;文生亚文奈斯里
分类号 G01N1/00 主分类号 G01N1/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种藉分析装置分析未知组成试样之方法,其系利用得自一组试样之一组分析度量値与一组参考度量値,该方法包括:使用第一个分析装置,使该组试样接受度量,于是获得一组分析度量値,其包含第一组多元讯号回应;调整该第一组多元讯号回应以移除与该第一个分析装置有关联之操作变异性之影响,于是获得经调整讯号回应之第一个矩阵;使用第二个分析装置,使该组试样接受度量,于是获得一组参考度量値,其包含第二组多元讯号回应;调整该第二组多元讯号回应以移除与该第二个分析装置有关联之操作变异性之影响,于是获得经调整讯号回应之第二个矩阵;使该经调整讯号回应之矩阵之一分解成矩阵乘积,其包含一个由一组主要因数所组成之矩阵,及一个由与该主要因数组中之每一个有关联之量所组成之矩阵;建立压缩讯号回应矩阵乘积,其包含一个由该主要因数组之子集所组成之矩阵,及一个由与被包含在该子集中之各主要因数有关联之量所组成之矩阵;自该由与被包含在该子集中之各主要因数有关联之量所组成之矩阵,计算投影矩阵;建立第一个正规化矩阵乘积,其包含正规化矩阵及该经调整讯号回应中之另一个;建立压缩正规化矩阵乘积,其包含该投影矩阵及该第一个正规化矩阵乘积;计算使该第一个正规化矩阵乘积与该压缩正规化矩阵乘积之差异降至最低之正规化矩阵之数値,于是产生最适宜正规化矩阵;建立第二个正规化矩阵乘积,其包含该最适宜正规化矩阵及该经调整讯号回应之矩阵之一;自该调整讯号回应之矩阵之另一个与该第二个正规化矩阵乘积,建立一个可用以分析藉该第一个分析装置得自该未知组成试样之讯号回应之校准;及应用该校准,以分析藉该第一个分析装置得自该未知组成试样之讯号回应,于是使得该试样之组成能够被精确地测得。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中经调整以移除与第一个分析装置有关联之操作变异性影响之第一组多元讯号回应,系包含经调整讯号回应之第一个矩阵X,及经调整以移除与第二个分析装置有关联之操作变异性影响之第二组多元讯号回应,系包含经调整讯号回应之第二个矩阵Y,该方法进一步包括:使矩阵X分解成矩阵乘积AB,其中矩阵B表示第一组主要因数,而矩阵A表示与各该第一组主要因数有关联之量;建立代表主要因数子集之矩阵{B及代表与各该主要因数子集有关联量之矩阵{A,其中该矩阵{A与{B之乘积系形成压缩讯号回应矩阵{X={A{B;自{A计算投影矩阵{S,其中hatS=hatA(hatAT hatA)-1 hatAT;自Y建立第一个正规化矩阵乘积W,其中W=NY,N包含正规化矩阵,其使得W与X成正比;自{S与W建立压缩矩阵乘积{W,其中{W={SW;计算使得W与{W间之差异降至最低之N之数値,于是产生最适宜正规化矩阵No;自No与X建立第二个正规化矩阵乘积XN,其中XN=No-1X;自Y与XN建立一个可用以分析藉该第一个分析装置得自该未知组成试样之讯号回应之校准;及应用该校准以分析藉该第一个分析装置得自该未知组成试样之讯号回应,于是使得该试样之组成能够被精确地测得。3.根据申请专利范围第1项之方法,其中该第一分析装置系选包括拉曼光谱测定、近红外光谱测定、紫外光/可见光谱测定、核磁共振光谱测定、质量光谱测定、气相层析、液相层析、重量测定、体积测定、滴定测定及黏度测定装置。4.根据申请专利范围第3项之方法,其中该第一个分析装置系为拉曼光谱测定装置或近红外光谱测定装置。5.根据申请专利范围第1项之方法,其中该第二个分析装置系选自包括拉曼光谱测定、近红外光谱测定、紫外光/可见光谱测定、核磁共振光谱测定、质量光谱测定、气相层析、液相层析、重量测定、体积测定、滴定测定及黏度测定装置。6.根据申请专利范围第5项之方法,其中该第二个分析装置系选自包括核磁共振光谱测定、气相层析及液相层析装置。7.根据申请专利范围第4或6项之方法,其中该组参考度量値系包含核磁共振光谱,且该组分析度量値系包含一种光谱,选自包括拉曼光谱与近红外光谱。8.根据申请专利范围第1项之方法,其中该未知组成试样包括固体、液体或两者。9.根据申请专利范围第8项之方法,其中该试样为接近或在于其沸点下之液体。10.根据申请专利范围第8项之方法,其中该试样为液体,且进一步包含蒸气。11.根据申请专利范围第1项之方法,其中该未知组成试样包含反应混合物之成份。
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