| 摘要 |
（Ａ）成分：イソポリ酸若しくはヘテロポリ酸又はそれらの塩又はそれらの組み合わせと、（Ｂ）成分：ポリシロキサン、ポリハフニウムオキサイド若しくは酸化ジルコニウム又はそれらの組み合わせとを含み、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量に基づいて（Ａ）成分を０．１乃至８５質量％の割合で含有するレジスト下層膜形成組成物であって、該ポリシロキサンが、Ｒ１ａＲ２ｂＳｉ（Ｒ３）４−（ａ＋ｂ）で示される加水分解性シランの加水分解縮合物であり、（ａ＋ｂ）が０である加水分解性シランが全加水分解性シラン中６０乃至８５モル％含まれているものであり、該ポリハフニウムオキサイドが、Ｈｆ（Ｒ４）４で示される加水分解性ハフニウムの加水分解縮合物であり、該酸化ジルコニウムが、Ｚｒ（Ｒ５）４、若しくはＺｒＯ（Ｒ６）２で示される加水分解性ジルコニウム、又はそれらの組み合わせの加水分解縮合物である組成物。 |
