半導体装置およびその製造方法

摘要

【課題】寸法および形状のばらつきの小さい光導波路を有する半導体装置を提供する。【解決手段】光導波路を形成する際、ダミーパターンが形成される領域Ｃにおいて、レジストマスクＲＭ２の開口部の面積と、レジストマスクＲＭ２から露出するダミーパターン用の半導体層ＳＬ４の面積とが一致し、かつ、レジストマスクＲＭ２から露出するダミーパターン用の半導体層ＳＬ４の厚さが均一となるようにする。これにより、ダミーパターン用の半導体層ＳＬ４をエッチングする際の実効的なパターン密度は変化しないので、所望する寸法および形状を有するリブ形状の光導波路を形成することができる。【選択図】図６