| 摘要 |
Verfahren zur Wärmebehandlung von Granulat aus Silizium, das aus polykristallinen Körnern besteht, Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus Silizium, in dessen Verlauf wärmebehandeltes Granulat aus Silizium verwendet wird und wärmebehandeltes Granulat aus Silizium. Das Verfahren zur Wärmebehandlung von Granulat aus Silizium umfasst: das Leiten eines Prozessgases entlang einer Fließrichtung durch eine Plasmakammer; das Erzeugen einer Plasmazone in der Plasmakammer; das Aufrechterhalten der Plasmazone durch Zuführen von Mikrowellenstrahlung in die Plasmakammer; das Vorerhitzen des Granulats aus Silizium durch das Prozessgas auf eine Temperatur von nicht weniger als 900 °C; den Transport des vorerhitzten Granulats aus Silizium durch die Plasmakammer und die Plasmazone entgegen der Fließrichtung des Prozessgases, wobei ein äußerer Bereich der Körner vorübergehend geschmolzen wird; und das Sammeln des plasmabehandelten Granulats aus Silizium. |
