| 摘要 |
【課題】所定の位相差が確保され、低応力で、かつ加工性に優れたハーフトーン位相シフト膜を備えるハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランク及びハーフトーン位相シフト型フォトマスクを提供する。【解決手段】透明基板と、透過率が９％以上４０％以下、位相差が１５０°以上２００°以下であるハーフトーン位相シフト膜とを有し、ハーフトーン位相シフト膜が、遷移金属、ケイ素、酸素及び窒素からなり、遷移金属の平均含有率が３原子％以上であり、かつ応力緩和層と位相差調整層とからなる複層で構成され、応力緩和層が、酸素の含有率が、３原子％以上であり、かつ最も低い層、位相差調整層が、酸素の含有率が、５原子％以上であり、かつ応力緩和層よりも２原子％以上高い層である。【選択図】図１ |
