发明名称 扣偾
摘要 一扣连结装置具:有向外、向上弯曲的固定柄臂;一向外延展之枢轴制动锁臂,其在柄臂上之下方的关闭状况以及举高的开启状况间系可移动的;具有可与锁啮合之侧壁的主体;主锁,在其与侧壁邻接之下方的锁定位置以及其从侧壁上枢轴地举高之未锁定位置间系可移动的;一垂直弹簧,其朝着下方的锁定位置偏拉锁;主锁在第一侧方位置及第二侧方位置间亦可以压钮枢锁向侧方移动;一侧方弹簧,其朝向第一侧方位置偏拉主锁;制动锁臂具凹槽,枢轴主锁处于第二侧方位置时可通过凹槽而垂直移动,并具一干扰凸缘,当处于第一侧方位置时凸缘与枢轴主锁啮合并避免主锁枢转到该未锁定位置;一第二锁,其具有锁定啮合器以便从第一位置将第二枢锁及主锁向侧方移至第二位位置。为了枢开制动锁臂,必须完成三个步骤,首先对抗着该侧方弹簧偏拉力压下该压钮而压下该二枢销,以便从第一位置上向侧方移出该至锁至该第二位置上,其次抗着该垂直弹簧之偏拉力将主锁向上举过该凹构,然后将该制动锁臂往上举。
申请公布号 TW240198 申请公布日期 1995.02.11
申请号 TW082109888 申请日期 1993.11.24
申请人 荷兰依鹊公司 发明人 吉乐尔德.W.韩格雷克;葛列格里.R.达洛渥尔
分类号 B60D1/04 主分类号 B60D1/04
代理机构 代理人 黄静嘉 台北巿忠孝东路四段五六三号十楼
主权项 产生电弧之绝缘材料,其特征为实际覆盖高压电极(92)整个表面之绝缘材料(94),因此在高压电极(92)使用一造成内电极产生电弧之电压,可增加电场强度。2.根据申请专利范围第1项之系统,其中电极(90﹑92)为在滴注轨迹方向分歧之平板,于是在滴注偏转装置(90﹑92)之入口处()之电场将较其出口处()为强。3.根据申请专利范围第1或2项之系统,其中将高压加至高压电极(92)之装置(+HV或-HV)是配置予即将赋予选定滴注电荷相同极性之高压,于是充电滴注将为高压电极(92)排斥而趋向低压偏转电极(90)。4.根据申请专利范围第3项之介质之系统,其中低压电极(90)有一无绝缘部分(96),其位置可吸引及中和充电滴注撞击此介质(34)所产生之墨雾上之电荷。5.一种滴注偏转器,用于将发出标记滴注流及充电选定滴注以沿一异于未充电滴柱所循轨迹偏转之滴注标记系统上,包含一高压电极及一,低压电极;维持低压电极在接地或近于接地电位之装置;将一高压加至高压电极俾足够在电极间产生一电场以偏转充电滴注之装置;及被覆高压电极部分以防止电极间产生电弧之绝缘材料,其特征为实际覆盖高压电极(92)整个表面之绝缘材料(94),操作高压电极(92)于引起内部电极产生电弧之电压,可增加电场强度。6.根据申请专利范围第5项之滴注偏转器,其中电极(90﹑92)为在滴注轨迹方向分歧之平板,于是在滴注偏转装置(90﹑92)之入口处()之电场将较其出口处()为强。7.根据申请专利范围第5或6项之滴注偏转器,其中施加高压至高压电极(92)之装置(+HV或-HV)是配置予将赋予选定滴注之电荷相同极性之高压,于是充电之滴注将为高压电极(92)排斥而趋向低压电极(90)。8.根据申请专利范围第7项之滴注偏转器,其中低压电极(90)有一无绝缘部分(96),其位置可吸引及中和由充电滴注撞击此一目标(34)所产生之墨雾上之电荷。9.一种将选定之充电滴注从第一軑迹偏转至另一轨迹之方法,包含充电及未充电之滴注流通过高压电极及低压电极间所产生之电场,其特征为将高压电极(92)绝缘使能在引起内部电极产生电弧之电压下工作。10.根据申请专利范围第9项之方法,将与充电滴注上电荷相同极性之高压加至高压电极(92),于是充电滴注将为高压电极(92)排斥而趋向低压电极(90)。11.根据申请专利范围第10项之方法,利用低压电极(90)吸引附随小滴注并中和位于其上之电荷。图1为一已知的滴注标记系统概要方块图,该系统用在图际影像喷射系统公司生产并以EXCEL注册商标销售之喷墨式印表机;图2为示于图1喷墨式印表机列印头之放大图,以说明滴注偏转器细部;及图3﹑4﹑5与6相似于图2,但系说明根据本发明滴注偏转器之替代型式,以便用于如图1所示之
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