发明名称 ターゲット供給装置
摘要 【課題】ターゲットを加圧する圧力の変動を抑えることで、極端紫外光が集光する位置が変動することにより生じる露光ムラを低減する。【解決手段】ノズル31から出力される液状のターゲット物質である溶融錫34を蓄えるタンク30内のガス圧を圧力調整器41が備えつけられたガスボンベ40から供給されるガスの圧力で制御するターゲット供給装置1は、ガスボンベ40から供給されるガスをタンク30へ導入するガス流路L1と、ガス流路L1上に配置されてガス流路L1を流れるガスの圧力を調整し、圧力調整器41よりも高精度の圧力調整が可能な圧力コントローラ51と、圧力コントローラ51とタンク30との間のガス流路L1に接続された計測用ガス流路に配置された圧力計53と、タンク30内の溶融錫34の温度を一定に制御するヒータ33とを備え、圧力計53の測定値をもとに圧力コントローラ51を制御する。【選択図】図6
申请公布号 JP2017049614(A) 申请公布日期 2017.03.09
申请号 JP20160233988 申请日期 2016.12.01
申请人 ギガフォトン株式会社 发明人 薮 隆之;中野 真生;長野 仁;石原 孝信
分类号 G03F7/20;H05G2/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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