真空处理装置及其清理方法

摘要

当处理标的物在气密隔间接受例如气体处理时，反应产物会附着于隔间内壁面，隔间内之标的物固持器，和隔间角隅部分。根据本发明当清洁介质注入隔间内时反应产物经水解溶解于清洁介质。其后，清洁介质由隔间排出。然后，隔间受热并抽真空，故水蒸气排出而得预定真空度，此时处理可重新开始。因此，可删去擦拭作业。此外，残留在处理隔间角隅部分的反应产物可被去除而未生成污染粒子源，故可免除大修的需求。如此，可进行所谓的全自动清理，处理隔间无需对大气开放，故可改良通过料量。