发明名称 蛍光X線分析方法及び蛍光X線分析装置
摘要 有機物を主成分とする試料から放出されるX線を測定した結果を利用して主成分以外の含有成分を定量する蛍光X線分析方法において、蛍光X線強度の測定値に基づいて含有成分の定量値を設定し、散乱X線強度の測定値と、試料が主成分からなり、かつ照射されたX線が全て試料に入射すると仮定して算出した散乱X線強度の理論値に基づいて、X線の照射率を表す面積占有率を計算し、含有成分の定量値及び面積占有率を用いて計算した蛍光X線強度の理論値と、蛍光X線強度の測定値に基づいて含有成分の定量値を再計算し、含有成分の定量値及び面積占有率を用いて計算した散乱X線強度の理論値と、散乱X線強度の測定値の比較結果に基づいて面積占有率を再計算し、含有成分の定量値の再計算及び面積占有率の再計算を繰り返し、予め設定された収束条件を満たした時点における定量値を前記含有成分の確定定量値とする。
申请公布号 JPWO2015056304(A1) 申请公布日期 2017.03.09
申请号 JP20150542432 申请日期 2013.10.15
申请人 株式会社島津製作所 发明人 寺下 衛作
分类号 G01N23/223;G01N23/20;G01N23/22 主分类号 G01N23/223
代理机构 代理人
主权项
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