| 摘要 |
【課題】周期パターン内の非周期部分に起因する欠陥の誤検出の低減を図った検査方法、および検査装置を提供する。【解決手段】 実施形態に係る検査方法は、解像限界以下の寸法の同一パターンを有する第１、第２のダイを含むマスクの検査方法であって、前記第１、第２のダイそれぞれに対応する第１、第２の画像を取得する工程と、前記第１、第２の画像それぞれの階調の局所的変動の分布を表す第１、第２の分布を導出する工程と、前記第１、第２の分布を比較して、前記第１，第２のダイの欠陥を検出する工程と、を備える。【選択図】図２ |
