发明名称 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、半導体装置及びレジストパターンの形成方法
摘要 (A)成分:フェノール性水酸基を有する樹脂、(B)成分:アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、グリシジルオキシ基及び水酸基から選択される1種以上の官能基を、2つ以上有する脂肪族化合物、(C)成分:光感応性酸発生剤、ならびに(D)成分:平均粒子径が100nm以下である無機フィラ−、を含有する感光性樹脂組成物。
申请公布号 JPWO2015046521(A1) 申请公布日期 2017.03.09
申请号 JP20150539431 申请日期 2014.09.29
申请人 日立化成株式会社 发明人 岩下 健一;加藤 哲也;海老原 雅彦;村上 泰治
分类号 G03F7/027;G03F7/004;G03F7/032;G03F7/38;H05K3/28 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
主权项
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