发明名称 光学材料用組成物及びそれを用いた光学材料
摘要 本発明によれば、下記i)からiii)のいずれかを満たすポリチオール化合物と、i)アンモニウムカチオン濃度が0.1〜150μmol/kgである;ii)チオシアン酸アニオン濃度が0.1〜300μmol/kgである;またはiii)アンモニウムカチオン濃度が0.1〜150μmol/kgであり、チオシアン酸アニオン濃度が0.1〜300μmol/kgであり、さらにアンモニウムカチオンとチオシアン酸アニオンのイオン濃度積が0.01〜15000(μmol/kg)2である;ポリエポキシ化合物および/またはポリエピスルフィド化合物と、を含む光学材料用組成物を提供することができる。
申请公布号 JPWO2015056665(A1) 申请公布日期 2017.03.09
申请号 JP20140557272 申请日期 2014.10.14
申请人 三菱瓦斯化学株式会社 发明人 下田 直嗣;堀田 明伸;嘉村 輝雄;輿石 英二
分类号 C08G75/08;C08G59/66;G02B1/04;G02C7/00 主分类号 C08G75/08
代理机构 代理人
主权项
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