Optische Anordnung, insbesondere Lithographiesystem

摘要

Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung, insbesondere ein Lithographiesystem, umfassend: einen Träger, eine relativ zu dem Träger bewegliche Komponente, insbesondere einen Spiegel, sowie mindestens einen Anschlag (6) mit mindestens einer Anschlagfläche (10) zur Begrenzung der Bewegung der Komponente. Der Anschlag (6) weist mindestens ein Formgedächtnis-Bauteil (12) auf, wobei das Formgedächtnis-Bauteil (12) zur Aufnahme einer mechanischen Schockbelastung beim Anschlagen der beweglichen Komponente gegen die Anschlagfläche (10) pseudoplastisch verformbar ist.