タンタルスパッタリングターゲット

摘要

ニオブ及びタングステンを必須成分として、合計で１ｍａｓｓｐｐｍ以上、１０ｍａｓｓｐｐｍ未満含有し、ニオブ、タングステン及びガス成分を除く純度が９９．９９９９％以上であることを特徴とするタンタルスパッタリングターゲット。均一で最適な範囲に調整された微細な組織を備え、安定して高い成膜速度を実現し、均一な膜を成膜することができる高純度タンタルスパッタリングターゲットを得る。【選択図】なし