发明名称 |
ペリクル、ペリクル付フォトマスク及び半導体素子の製造方法 |
摘要 |
本発明は、ペリクル枠と、ペリクル枠の一端面(2e)に張設されたペリクル膜(3)と、ペリクル枠の他端面(2f)に付着した非架橋型のアクリル系粘着剤(10)とを備え、前記非架橋型のアクリル系粘着剤(10)における重量平均分子量800以下の化合物の含有量が18質量%以下であるペリクルに関する。本発明によれば、マスクからペリクルを剥離した時の糊残りを十分に防止することができる。 |
申请公布号 |
JPWO2015056653(A1) |
申请公布日期 |
2017.03.09 |
申请号 |
JP20150542607 |
申请日期 |
2014.10.10 |
申请人 |
旭化成株式会社 |
发明人 |
浅田 晋;玉屋 英明;矢野 浩平;山下 泰輝 |
分类号 |
G03F1/62;C08L33/06;G03F7/20 |
主分类号 |
G03F1/62 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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