| 摘要 |
【課題】フットプリントの増大を軽減しつつ生産能力を容易に増強することができるイオン注入装置を提供する。【解決手段】イオン注入装置１０は、複数のイオン注入ユニット１１であって、各イオン注入ユニット１１が、プラズマ室と引出電極系とを備えるイオン源ユニット１８と、イオン源ユニット１８を構造的に支持するとともにイオンビームの進路を囲むビームガイド３４と、を備え、複数のイオン注入ユニット１１のイオン源ユニット１８は直列に配列され、複数のイオン注入ユニット１１のビームガイド３４はそれぞれがイオン源ユニット１８の直列の配列に沿って続く真空プロセス領域１５にイオンビームを導く、複数のイオン注入ユニット１１と、真空プロセス領域１５に配置されている基板走査装置１０２であって、イオン源ユニット１８の直列の配列に沿って一方向または双方向にイオンビームに対し基板を走査する基板走査装置１０２と、を備える。【選択図】図８ |
