发明名称 | 印章、印章的制备方法以及液滴阵列的制备方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种印章,其包括一基底和设置于基底的表面的多个凹孔,其中,所述凹孔的内表面为超疏水表面。本发明还涉及一种印章的制备方法以及一种液滴阵列的形成方法。 | ||
申请公布号 | CN103753984B | 申请公布日期 | 2017.05.03 |
申请号 | CN201410034590.X | 申请日期 | 2014.01.25 |
申请人 | 深圳清华大学研究院 | 发明人 | 刘杰;张靓;唐旭东;裴渭静;栾琳;吴天准 |
分类号 | B41K1/38(2006.01)I | 主分类号 | B41K1/38(2006.01)I |
代理机构 | 深圳市鼎言知识产权代理有限公司 44311 | 代理人 | 孔丽霞 |
主权项 | 一种印章的制备方法,其包括以下步骤:提供一第一基板,所述第一基板包括一平整的表面,所述第一基板为玻璃、硅片、塑料或陶瓷,并在第一基板的表面设置多个凸部;用等离子刻蚀所述凸部,使得凸部的表面粗糙化;以及浇注一高分子材料,经固化、脱模后得到一包括多个凹孔的基底,所述凹孔的内表面为超疏水表面,其中所述内表面为一粗糙的表面,其算术粗糙度大于50纳米,其中所述超疏水表面是指水滴在该表面的接触角大于等于140度的表面,所述算术粗糙度是指在一取样长度L内轮廓偏距绝对值的算术平均值。 | ||
地址 | 518057 广东省深圳市南山区高新技术产业园南区深圳清华大学研究院大楼A302室 |