发明名称 | 用于非平面基材的等离子体涂覆体系 | ||
摘要 | 一种非平面制品包括等离子体‑沉积耐磨性涂覆,该涂层具有基本上均匀的厚度和δ浊度(%)在平均值约+/‑0.25范围内的基本上均匀的耐磨性。 | ||
申请公布号 | CN104746050B | 申请公布日期 | 2017.05.03 |
申请号 | CN201510137665.1 | 申请日期 | 2005.03.08 |
申请人 | 埃克阿泰克有限责任公司 | 发明人 | B·A·科列瓦尔;C·D·亚科万格洛;T·米巴赫;M·W·梅塞德斯 |
分类号 | C23C16/513(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/513(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 张力更 |
主权项 | 一种涂覆非平面基材的方法,该方法具有如下步骤:由一个以上固定的膨胀热等离子体源生成等离子体;将第一组汽化试剂注入所述等离子体中以在基材上形成第一涂层;将第二组汽化试剂注入所述等离子体中以在所述第一涂层上形成一层以上的涂层;所述等离子体具有确定离子流的Ar流量和弧电流,还具有如下步骤:调节所述离子流以在20cm至31cm的工作距离上得到均匀的涂覆性。 | ||
地址 | 美国密执安州 |