一种基于光通量约束的随机编码混合光栅

摘要

本发明公开了一种基于光通量约束的随机编码混合光栅。本发明包括不透明掩膜S2和透明基底S1；掩膜S2覆盖在基底S1上的部分区域，使得光栅上每个面积为S的正方形区域的光通量满足分布，其中为所述随机编码混合光栅的栅距，并且在各个面积为S的正方形区域内掩膜区块呈随机排布；另对基底S1上范围内且无掩膜覆盖区域的基底加以刻蚀，所述刻蚀深度使得通过刻蚀区域透光部分的光波相对于未刻蚀基底透光部分的光波超前π相位。本发明一方面省略了传统交叉光栅四波前横向剪切干涉中的级次选择窗口，简化系统结构的同时提高了系统稳定性，另一方面在形成的四波前横向剪切干涉图中也减少了其他衍射级次的干扰，提高了对待测波前的检测精度。

主权项

基于光通量约束的随机编码混合光栅，其特征在于包括不透明掩膜S2和透明基底S1；掩膜S2覆盖在基底S1上的部分区域，使得光栅上每个面积为S的正方形区域的光通量满足分布，其中d为所述随机编码混合光栅的栅距，并且在各个面积为S的正方形区域内掩膜区块呈随机排布；另对基底S1上范围内且无掩膜覆盖区域的基底加以刻蚀，所述刻蚀深度使得通过刻蚀区域透光部分的光波相对于未刻蚀基底透光部分的光波超前π相位。