发明名称 一种快恢复二极管的结构及其制造方法
摘要 本发明提供一种快恢复二极管的结构及其制造方法,该结构包括:阴极金属层;位于所述阴极金属层上的阴极区,所述阴极区具有第一导电类型;位于所述阴极区上的漂移区,所述漂移区具有第一导电类型;位于所述漂移区上的阳极区,所述阳极区具有第二导电类型,所述漂移区和所述阳极区的界面处形成PN结,所述PN结处和/或所述漂移区中和或所述阳极区中形成有键合界面;和位于所述阳极区上的阳极金属层。通过引入键合界面以在快恢复二极管体区形成低寿命区域,并且通过精确控制键合界面的位置,以精确地控制载流子在快恢复二极管体区的寿命分布,有效提高快恢复二极管的开关速度,同时保证开关软度。
申请公布号 CN103700712B 申请公布日期 2017.05.03
申请号 CN201210367302.3 申请日期 2012.09.27
申请人 比亚迪股份有限公司 发明人 吴海平;郝瑞红;肖秀光
分类号 H01L29/861(2006.01)I;H01L29/45(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I;H01L29/36(2006.01)I 主分类号 H01L29/861(2006.01)I
代理机构 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人 张大威
主权项 一种快恢复二极管的制造方法,包括以下步骤:提供第一晶片,所述第一晶片包括阴极区和位于所述阴极区上的漂移区,所述阴极区和所述漂移区具有第一导电类型;在所述第一晶片的漂移区上依次键合多个第二晶片,每个所述第二晶片具有第一导电类型,以及分别将每个所述第二晶片减薄至所需厚度;对所述第二晶片进行掺杂以形成具有第二导电类型的阳极区;和在所述第一晶片的阴极区下方形成阴极金属层,以及在所述阳极区上形成阳极金属层。
地址 518118 广东省深圳市坪山新区比亚迪路3009号
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