| 发明名称 | 形成具有一体的通道的熔覆层的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种方法，该方法包括：将陶瓷的预成形件(10)浸入粉末超合金材料(14)的层(12)中，其中，预成形件限定待形成在超合金材料的层(42)中的通道(60、62、64、78)的期望形状；将在预成形件周围的粉末超合金材料熔化而不熔化预成形件；并且将预成形件周围的粉末超合金材料冷却并重新固化，以形成超合金材料的层，其中由预成形件限定超合金材料的层中的通道的形状。 | ||
| 申请公布号 | CN106607587A | 申请公布日期 | 2017.05.03 |
| 申请号 | CN201610911925.0 | 申请日期 | 2016.10.19 |
| 申请人 | 西门子能源有限公司 | 发明人 | 格拉尔德·J·布鲁克;艾哈迈德·卡梅尔 |
| 分类号 | B22F3/105(2006.01)I;B22F3/11(2006.01)I;B33Y10/00(2015.01)I;B33Y80/00(2015.01)I;C23C24/10(2006.01)I | 主分类号 | B22F3/105(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 王艳江;侠晖霞 |
| 主权项 | 一种方法，包括：将陶瓷的预成形件(10)浸入粉末超合金材料(14)的层(12)中，其中，所述预成形件限定出将要在超合金材料的层(42)中形成的空隙(60、62、64、78)的期望形状；将所述预成形件周围的粉末超合金材料熔化而不熔化所述预成形件；以及将所述预成形件周围的被熔化的超合金材料冷却并重新固化，以形成超合金材料的层，其中所述预成形件限定超合金材料的层中的所述空隙的形状。 | ||
| 地址 | 美国佛罗里达州 | ||