发明名称 |
覆盖预测的方法 |
摘要 |
一种方法包括:接收衬底,该衬底具有内嵌在衬底中的材料部件,其中,接收衬底包括接收形成材料部件时所生成的第一水准数据和第一覆盖数据;在衬底上沉积抗蚀膜;以及使用预测的覆盖校正数据对抗蚀膜进行曝光,以形成覆盖衬底上的材料部件的抗蚀图案,其中,使用预测的覆盖校正数据包括生成第二水准数据并使用第一水准数据、第一覆盖数据和第二水准数据计算预测的覆盖校正数据。本发明还提供了覆盖预测的方法。 |
申请公布号 |
CN103779188B |
申请公布日期 |
2017.05.03 |
申请号 |
CN201310014649.4 |
申请日期 |
2013.01.15 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
陈立锐;梁辅杰;谢弘璋 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 |
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 |
代理人 |
章社杲;孙征 |
主权项 |
一种形成抗蚀图案的方法,所述方法包括:接收衬底,所述衬底具有内嵌在所述衬底中的材料部件,其中,接收所述衬底包括接收与第一光刻胶膜相关的第一水准数据和与图案化的所述第一光刻胶膜相关的第一覆盖数据,其中,使用所述图案化的第一光刻胶膜形成所述材料部件;在所述衬底上沉积第二光刻胶膜;获得与所述第二光刻胶膜相关的第二水准数据;以及使用预测的覆盖校正数据对所述第二光刻胶膜进行曝光,以形成覆盖所述衬底上的所述材料部件的抗蚀图案,其中,基于所述第一水准数据、所述第一覆盖数据和所述第二水准数据确定所述预测的覆盖校正数据,其中,所述预测覆盖校正数据导致所述第一水准数据和所述第二水准数据之间的水准差值数据的结果。 |
地址 |
中国台湾新竹 |