发明名称 |
产生层结构的方法和形成图案的方法 |
摘要 |
本发明提供一种产生层结构以及形成图案的方法。所述产生层结构的方法包含在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物且将其固化以形成第一有机层(S1);施用液体材料到第一有机层以去除第一有机层的一部分(S2);以及在部分去除的第一有机层上涂布第二组合物且将其固化以形成第二有机层(S3),其中第一组合物和第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元和溶剂的聚合物。本发明不使用特定回蚀或化学机械抛光工艺却可显示极好的平坦化特征,且通过使用预定聚合物作为层材料,显示改进的耐蚀刻性的产生层结构。在化学式1中,A1、B1以及*与具体实施方式中所定义相同。<img file="DDA0001122639080000011.GIF" wi="829" he="208" /> |
申请公布号 |
CN106610567A |
申请公布日期 |
2017.05.03 |
申请号 |
CN201610860457.9 |
申请日期 |
2016.09.28 |
申请人 |
三星SDI株式会社 |
发明人 |
郑瑟基;金旼秀;金瑆焕;宋炫知;姜善惠;金永珉;金有那;金眞亨;南沇希;白载烈;尹星莉;李忠宪;洪承希;黄善民 |
分类号 |
G03F7/09(2006.01)I;G03F7/11(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/09(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
彭雪瑞;臧建明 |
主权项 |
一种产生层结构的方法,其特征在于,包括:在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物,且将所述第一组合物固化以形成第一有机层;施用液体材料到所述第一有机层,以去除所述第一有机层的一部分;以及在所述部分去除的第一有机层上涂布第二组合物,且将所述第二组合物固化以形成第二有机层,其中所述第一组合物和所述第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元的聚合物和溶剂:化学式1<img file="FDA0001122639050000011.GIF" wi="590" he="173" />其中,在化学式1中,A<sup>1</sup>为包含至少一个经取代或未经取代的苯环的二价环基,B<sup>1</sup>为二价有机基团,以及*为连接点。 |
地址 |
韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号 |