| 发明名称 | 反应腔室及半导体加工设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种反应腔室及半导体加工设备，属于半导体制造的技术领域，其可解决现有的半导体加工设备中颗粒容易返回反应腔室中造成二次污染的问题。本发明的反应腔室包括设置在所述反应腔室底部的出气口，还包括颗粒阻挡板，在所述颗粒阻挡板上设置有可供颗粒单向通过的通道，用于阻挡自所述出气口排出所述反应腔室的颗粒重新返回所述反应腔室。本发明的反应腔室由于在其内部增设了颗粒阻挡板，可以有效阻挡处于颗粒阻挡板下方的颗粒回灌到反应腔室内部，避免了颗粒对反应腔室造成二次污染，使反应腔室长时间处于良好的工作状况下，提高了产品的良率。 | ||
| 申请公布号 | CN106611693A | 申请公布日期 | 2017.05.03 |
| 申请号 | CN201510705768.3 | 申请日期 | 2015.10.27 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 彭宇霖 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I;H01J37/317(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 彭瑞欣;张天舒 |
| 主权项 | 一种反应腔室，包括设置在所述反应腔室底部的出气口，其特征在于，还包括颗粒阻挡板，在所述颗粒阻挡板上设置有可供颗粒单向通过的通道，用于阻挡自所述出气口排出所述反应腔室的颗粒重新返回所述反应腔室。 | ||
| 地址 | 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号 | ||