发明名称 一种台面二极管
摘要 本实用新型半导体技术领域,尤其涉及一种台面二极管,包括具有主沟槽的台面结构、覆盖在所述主沟槽的表面的钝化层,所述台面结构的PN结至少部分裸露于所述主沟槽的表面;其特征在于:所述台面结构还包括副沟槽,所述副沟槽设于所述主沟槽和所述电极之间,所述钝化层由所述主沟槽的表面延伸至所述副沟槽的表面并且覆盖所述副沟槽的表面。通过采用双沟槽结构和阻断部设计,提高了台面二极管的特性和可靠性,特别是在高压应用场合下。由于采用了双沟槽结构,对沟槽的形貌的技术要求可以进一步放宽,便于大规模制造。
申请公布号 CN206148437U 申请公布日期 2017.05.03
申请号 CN201621185134.6 申请日期 2016.11.04
申请人 四川洪芯微科技有限公司 发明人 冯春阳;李学良;马晓洁;戴建定;唐毅
分类号 H01L29/861(2006.01)I 主分类号 H01L29/861(2006.01)I
代理机构 湖州金卫知识产权代理事务所(普通合伙) 33232 代理人 赵卫康
主权项 一种台面二极管,包括具有主沟槽的台面结构、覆盖在所述主沟槽的表面的钝化层,所述台面结构的PN结至少部分裸露于所述主沟槽的表面;其特征在于:所述台面结构还包括副沟槽,所述副沟槽设于所述主沟槽和所述电极之间,所述钝化层由所述主沟槽的表面延伸至所述副沟槽的表面并且覆盖所述副沟槽的表面。
地址 629200 四川省遂宁市射洪县经济开发区河东大道
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