发明名称 |
浸泡式玻璃基板蚀刻机 |
摘要 |
本发明提供一种浸泡式玻璃基板蚀刻机,包括一槽体(10)、位于所述槽体(10)底部的底部鼓泡板(20)、置于所述槽体(10)内并位于所述底部鼓泡板(20)上的内框(30)、及位于内框(30)内的数层间隔设置的内框鼓泡板(40);相较于现有蚀刻机中仅底部设有鼓泡板的结构,能够强化槽内槽液循环,使玻璃基板表面产生的生成物被及时去除,并能够使槽内槽液循环更加均匀,避免水波纹及厚度蚀刻异常的产生。 |
申请公布号 |
CN104891817B |
申请公布日期 |
2017.05.03 |
申请号 |
CN201510314348.2 |
申请日期 |
2015.06.09 |
申请人 |
武汉华星光电技术有限公司 |
发明人 |
刘亮;尹德胜 |
分类号 |
C03C15/00(2006.01)I |
主分类号 |
C03C15/00(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市德力知识产权代理事务所 44265 |
代理人 |
林才桂 |
主权项 |
一种浸泡式玻璃基板蚀刻机,其特征在于,包括一槽体(10)、位于所述槽体(10)底部的底部鼓泡板(20)、置于所述槽体(10)内并位于所述底部鼓泡板(20)上的内框(30)、及位于内框(30)内的数层间隔设置的内框鼓泡板(40);所述底部鼓泡板(20)与内框鼓泡板(40)分别包括数条鼓泡管道,所述鼓泡管道具有多个鼓泡孔;使用时,每一玻璃基板均位于每层内框鼓泡板(40)的两条相邻鼓泡管道之间。 |
地址 |
430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 |