发明名称 | 微衍射 | ||
摘要 | 本发明提供了一种用于测量具有样品表面的样品的X射线衍射的方法和装置。X射线衍射方法在样品(10)的表面(14)上沿着照射带(16)照射射束(4)。X射线被所述样品(10)衍射并通过具有基本上垂直于所述带(16)延伸的狭缝的掩模(20)。通过二维X射线检测器检测X射线,从而测量沿着所述带(16)的不同位置的衍射X射线。 | ||
申请公布号 | CN103383363B | 申请公布日期 | 2017.05.03 |
申请号 | CN201310069293.4 | 申请日期 | 2013.02.28 |
申请人 | 帕纳科有限公司 | 发明人 | D·贝克尔斯;M·歌特斯凯 |
分类号 | G01N23/20(2006.01)I | 主分类号 | G01N23/20(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 陈芳 |
主权项 | 一种用于测量具有样品表面的样品的X射线衍射方法,所述方法包括:沿着照射带(16)照射X射线束(4),所述照射带在y方向上沿着所述样品(10)的表面(14)延伸;使被所述样品沿着所述照射带衍射的X射线通过所述样品(10)和二维X射线检测器(22)之间的掩模(20),所述掩模(20)具有基本上垂直于所述y方向延伸的狭缝(24),使得从沿着所述照射带(16)的不同位置衍射的X射线在二维X射线检测器(22)上沿着所述y方向的不同位置处被接收,其中所述掩模(20)被设置在与所述照射带(16)相距所述照射带(16)和所述二维X射线检测器(22)之间的距离的20%和80%之间的距离的位置处;在所述二维X射线检测器上检测被所述样品(10)衍射的X射线,从而在所述二维X射线检测器上沿着所述y方向的不同位置对应于沿着所述照射带(16)的不同位置,在所述二维X射线检测器上垂直于线方向的方向z’上的不同位置对应于不同的衍射角2θ。 | ||
地址 | 荷兰阿尔默洛 |