发明名称 |
薄膜晶体管及其制作方法 |
摘要 |
一种薄膜晶体管,包括栅极、栅极绝缘层、本征非晶硅层、源极以及漏极。该栅极绝缘层设于该栅极与该本征非晶硅层之间使二者彼此绝缘。其中,该本征非晶硅层包括第一层及第二层,该第二层覆盖该第一层。该第二层包括非掺杂区域及位于该非掺杂区域两侧的掺杂区域。该源极与该漏极均与该掺杂区域接触,该非掺杂区域及至少部分该掺杂区域显露于该源极与该漏极之间。 |
申请公布号 |
CN106611794A |
申请公布日期 |
2017.05.03 |
申请号 |
CN201510687157.0 |
申请日期 |
2015.10.22 |
申请人 |
鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
发明人 |
安生健二 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/66(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 |
代理人 |
汪飞亚 |
主权项 |
一种薄膜晶体管,包括栅极、栅极绝缘层、本征非晶硅层、源极以及漏极;该栅极绝缘层设于该栅极与该本征非晶硅层之间使二者彼此绝缘;其特征在于,该本征非晶硅层包括第一层及第二层,该第二层覆盖该第一层;该第二层包括非掺杂区域及位于该非掺杂区域两侧的掺杂区域;该源极与该漏极均与该掺杂区域接触,该非掺杂区域及至少部分该掺杂区域显露于该源极与该漏极之间。 |
地址 |
518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 |