发明名称 | 固态成像装置及其制造方法以及成像设备 | ||
摘要 | 可以同时实现充分的空穴积聚层和暗电流的减少。固态成像装置(1)包括对入射光进行光电转换的光接收部分(12)。该固态成像装置(1)具有形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上以降低界面态的膜(21),以及形成在形成为降低界面态的膜(21)上且具有固定负电荷的膜(22)。空穴积聚层(23)形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上。 | ||
申请公布号 | CN103700680B | 申请公布日期 | 2017.05.03 |
申请号 | CN201310734014.1 | 申请日期 | 2007.08.20 |
申请人 | 索尼株式会社 | 发明人 | 山口哲司;大岸裕子;安藤崇志;池田晴美 |
分类号 | H01L27/146(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/146(2006.01)I |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
主权项 | 一种固态成像装置,其特征在于:所述固态成像装置包括对入射光进行光电转换的光接收部分,所述固态成像装置包括:绝缘膜,设置为所述光接收部分的光接收表面侧的上层;以及设置在所述绝缘膜上且功函数值大于进行光电转换的所述光接收部分的光接收表面侧的界面的功函数值的膜,从而在所述光接收部分处形成空穴积聚层,其中所述空穴积聚层设置在所述光接收部分的光接收表面侧,并且所述空穴积聚层直接接触所述光接收部分的光接收表面。 | ||
地址 | 日本东京都 |