一种低电阻ITO透明导电膜

摘要

本发明公开了一种低电阻ITO透明导电膜，所述ITO透明导电膜依次包括：柔性基材、第一过渡层、高折射率层、第二过渡层、金属层、及ITO透明导电层，所述高折射率层的折射率范围在2.0至2.4之间，所述第一过渡层为过渡金属层或过渡金属氧化物层，用于增加高折射率层与柔性基材的结合力，所述第二过渡层为过渡金属层或过渡金属氧化物层，用于增加高折射率层与金属层之间的结合力。本发明利用层间掺杂，极大地提高了膜系的导电性，使其达到了相同厚度ITO膜系所不能达到的低电阻，可以应用于大面积触控屏、电磁脉冲屏蔽膜等领域。

主权项

一种低电阻ITO透明导电膜，其特征在于，所述ITO透明导电膜依次包括：柔性基材、第一过渡层、高折射率层、第二过渡层、金属层、及ITO透明导电层，所述高折射率层的折射率范围在2.0至2.4之间，所述第一过渡层为过渡金属层或过渡金属氧化物层，用于增加高折射率层与柔性基材的结合力，所述第二过渡层为过渡金属层或过渡金属氧化物层，用于增加高折射率层与金属层之间的结合力；所述高折射率层的厚度与所述ITO透明导电层的厚度均为半个光学厚度。