一种离化率检测装置及方法

摘要

本发明公开了一种离化率检测装置及方法，涉及微电子加工技术领域，能够准确检测溅射粒子的离化率。该离化率检测装置包括检测晶片和第一直流电源，所述检测晶片上设置有测试孔，所述测试孔底部设置有导电箔，所述导电箔连接所述第一直流电源的负极，所述第一直流电源的正极接地，在连接所述导电箔和所述第一直流电源之间的线路上设有电流检测单元，所述测试孔顶部叠加设置有至少一层第一栅网和至少一层第二栅网，所述第一栅网用于阻挡电子到达所述导电箔，所述第二栅网用于阻挡工作气体离子到达所述导电箔。本发明用于检测溅射粒子的离化率。

主权项

一种离化率检测装置，包括检测晶片和第一直流电源，所述检测晶片上设置有测试孔，所述测试孔底部设置有导电箔，所述导电箔连接所述第一直流电源的负极，所述第一直流电源的正极接地，在连接所述导电箔和所述第一直流电源的线路上设有电流检测单元，其特征在于，所述测试孔顶部叠加设置有至少一层第一栅网和至少一层第二栅网，所述第一栅网用于阻挡电子到达所述导电箔，所述第二栅网用于阻挡工作气体离子到达所述导电箔。