发明名称 一种基于纳米颗粒的光伏电池表面陷光结构的制造工艺
摘要 本发明公开了一种基于纳米颗粒的光伏电池表面陷光结构的制造工艺,包括如下步骤:1)采用二氧化硅制作自组装掩模版,并将正酸乙酯和乙醇溶液混合,在自组装掩模版制作出二氧化硅纳米颗粒自组装掩模版;2)二氧化硅纳米颗粒自组装掩模版,对已经扩散好PN的硅片进行刻蚀,再在硅片的表面进行陷光结构的刻蚀,以制作硅微米柱阵列。本发明降低了反应离子刻蚀法的成本,并通过混合酸溶液的修饰大量减少了刻蚀后缺陷,使得硅柱既能成为良好的陷光结构,又不会使表面刻蚀缺陷激增,从而降低的光伏电池的反射率,增加了电池的光生电流。
申请公布号 CN106601836A 申请公布日期 2017.04.26
申请号 CN201611168608.0 申请日期 2016.12.16
申请人 上海电机学院 发明人 王珺;郭群超;朱红英;丁云飞;朱晨烜
分类号 H01L31/0236(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I 主分类号 H01L31/0236(2006.01)I
代理机构 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 代理人 俞晨波
主权项 一种基于纳米颗粒的光伏电池表面陷光结构的制造工艺,其特征在于,包括如下步骤:1)采用二氧化硅制作自组装掩模版,并将正酸乙酯和乙醇溶液混合,在自组装掩模版制作出二氧化硅纳米颗粒自组装掩模版;2)二氧化硅纳米颗粒自组装掩模版,对已经扩散好PN的硅片进行刻蚀,再在硅片的表面进行陷光结构的刻蚀,以制作硅微米柱阵列。
地址 200240 上海市闵行区江川路690号