发明名称 |
一种阵列基板及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种阵列基板及其制造方法,该方法包括:提供一基板;在基板上形成垫高图案;在基板及垫高图案上依次形成金属层和介质层;在介质层上形成彩色滤光片图案;在彩色滤光片图案上形成有机绝缘层;在有机绝缘层的对应于垫高图案的顶部的位置处形成第一通孔。通过上述方式,一方面能够在显影时减少孔内有机绝材料的残留,另一方面能够在退火时防止有机绝缘材料回流至孔内,将通孔堵住的风险。 |
申请公布号 |
CN106597769A |
申请公布日期 |
2017.04.26 |
申请号 |
CN201611234873.4 |
申请日期 |
2016.12.28 |
申请人 |
深圳市华星光电技术有限公司 |
发明人 |
范德勇 |
分类号 |
G02F1/1362(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1362(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 |
代理人 |
钟子敏 |
主权项 |
一种阵列基板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:提供一基板;在所述基板上形成垫高图案;在所述基板及所述垫高图案上依次形成金属层和介质层;在所述介质层上形成彩色滤光片图案;在所述彩色滤光片图案上形成有机绝缘层;在所述有机绝缘层的对应于所述垫高图案的顶部的位置处形成第一通孔。 |
地址 |
518006 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号 |