旋转真空镀膜室

摘要

本实用新型涉及旋转真空镀膜室，包括真空泵、导气管、反应室、蒸发源、镀膜支架、旋转台，其特征在于真空泵通过导气管与反应室连通，反应室位置设置有旋转台，镀膜支架设置在旋转台上方，镀膜支架顶部朝上方突起，旋转台位于镀膜支架顶部突起的正下方，蒸发源为多个，多个蒸发源放射状分布在旋转台上方。镀膜支架为三脚支架。镀膜支架顶部呈圆形。旋转台上的蒸发源为三个。由于本实用新型所述的旋转真空镀膜室的镀膜支架顶部朝上方突起，旋转台位于镀膜支架顶部突起的正下方，多个蒸发源放射状分布在旋转台上方，因此蒸发源与镀膜支架上不同位置的直线距离差极小，尽量减小了镀膜支架上工件的镀膜速率差，保证了镀膜的均匀。

主权项

旋转真空镀膜室，包括真空泵、导气管、反应室、蒸发源、镀膜支架、旋转台，其特征在于真空泵通过导气管与反应室连通，反应室中央位置设置有旋转台，镀膜支架设置在旋转台上方，镀膜支架顶部朝上方突起，旋转台位于镀膜支架顶部突起的正下方，蒸发源为多个，多个蒸发源放射状分布在旋转台上方。