发明名称 一种双光路投影曝光3D打印装置及方法
摘要 本发明公开了一种双光路投影曝光3D打印装置及方法,装置包括计算机、大面积投影曝光装置、精密投影曝光装置、成形装置以及用于转换曝光模式和调整精密投影曝光装置位置的高精度位移平台。大面积投影曝光装置包括紫外光源、动态掩模板、放大投影镜头、反射镜;精密投影曝光装置包括紫外光源、动态掩模板、缩小投影镜头;成形装置包括光敏溶液槽、零件成形托板和带动零件成形托板运动的垂直运动工作台,光敏溶液槽内有光敏溶液,零件成形托板处于光敏溶液中。本发明还提供了一种双光路光投影3D打印方法。本发明可根据零件不同部位对精度要求的不同,采用相应的投影曝光装置对其进行加工,在保证零件制作速度的同时提高零件细微结构的制作精度。
申请公布号 CN105216320B 申请公布日期 2017.04.26
申请号 CN201510679434.3 申请日期 2015.10.19
申请人 西安交通大学 发明人 刘亚雄;王亚宁;陈冬;黄亚江;王玲;贺健康;李涤尘
分类号 B29C64/20(2017.01)I;B29C64/124(2017.01)I;B29C64/129(2017.01)I;B33Y30/00(2015.01)I 主分类号 B29C64/20(2017.01)I
代理机构 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人 徐文权
主权项 一种双光路投影曝光3D打印装置,其特征在于,包括计算机、以及与所述计算机相连的高精度位移平台(11)、大面积投影曝光装置、精密投影曝光装置和成形装置;所述大面积投影装置至少包括1#紫外光源(1)、与1#紫外光源(1)出射光束呈倾斜设置的1#动态掩模板(2)、与1#动态掩模板(2)反射光束面平行设置的放大投影镜头(3),以及与放大投影镜头(3)透光面呈角度设置的反射镜(4);所述精密投影曝光装置至少包括2#紫外光源(5)、与2#紫外光源(5)出射光束呈倾斜设置的2#动态掩模板(6),以及与2#动态掩模板(6)反射光束面平行设置的缩小投影镜头(7);所述精密投影曝光装置设在高精度位移平台(11)上,能够在高精度位移平台(11)上做二维运动;所述成形装置包括光敏溶液槽(8)、置于光敏溶液槽(8)中的零件成形托板(9),以及与所述零件成形托板(9)相连的垂直运动工作台(10);1#紫外光源(1)发出的紫外光经1#动态掩模板(2)的反射,放大投影镜头(3)的透射以及反射镜(4)的反射后照射到光敏溶液槽(8)中的零件成形托板(9)工作面上,进行大面积投影曝光制作;2#紫外光源(5)发出的紫外光经2#动态掩模板(6)的反射以及缩小投影镜头(7)的透射后照射到光敏溶液槽(8)中的零件成形托板(9)工作面上,进行精密投影曝光制作,从而实现双光路投影曝光3D打印。
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