湿溶性光刻

摘要

一种在半导体衬底上形成湿溶性光刻层的系统，包括提供衬底，在衬底上淀积包括第一材料的第一层，在衬底上淀积包括第二材料的第二层。在一个实施例中，第一材料与第二材料包括不同的成分，第一层和第二层之一包括硅。

主权项

一种在衬底上形成湿溶性光刻层的方法，该方法包括：提供衬底；在所述衬底上淀积包括第一材料的第一层；以及在所述第一层上淀积包括第二材料的第二层，其中所述第一材料与所述第二材料包括不同的成分，且其中所述第一层和第二层中的一个包括硅，所述第一层为牺牲含硅层；构图所述第一层和所述第二层以形成所述衬底的曝光部分；在所述衬底上进行注入工艺；所述方法还包括在所述注入工艺之后进行热处理和光处理之一，其中所述热处理和所述光处理之一改变所述牺牲含硅层的可溶性。