发明名称 |
一种避免像素电极open的结构设计及其制备工艺 |
摘要 |
本发明提供了一种避免像素电极open的结构设计,所述结构设计中采用特殊LS遮光层,在LS层图案边界位置形成漏极刻蚀孔,形成漏极处凸起结构,在凸起处PLN层厚度明显小于周围其他位置。进一步在漏极凸起位置正上方完成PLN打孔,此时打孔深度将明显小于原有结构时孔洞深度,为像素电极线P‑ITO的淀积提供了更小的坡度角,能够避免因P‑ITO线断裂而产生的不良。 |
申请公布号 |
CN106601755A |
申请公布日期 |
2017.04.26 |
申请号 |
CN201710017219.6 |
申请日期 |
2017.01.10 |
申请人 |
北京理工大学 |
发明人 |
喻志农;闫伟;郭建;蒋玉蓉;薛唯 |
分类号 |
H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2017.01)I |
主分类号 |
H01L27/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 |
代理人 |
皋吉甫 |
主权项 |
一种避免像素电极open的结构设计,其特征在于,所述结构设计为特殊LS结构半导体基板,所述特殊LS结构半导体基板包括LS遮光层,所述LS遮光层构成凸起结构,所述凸起结构正上方设有漏极电极刻蚀孔和 PLN孔,所述漏极电极刻蚀孔为ILD孔。 |
地址 |
100081 北京市海淀区中关村南大街5号 |