发明名称 |
靶材制备方法和吸气剂薄膜形成方法 |
摘要 |
一种靶材制备方法和吸气剂薄膜形成方法,所述靶材制备方法包括:在惰性气体氛围下,按照靶材各组分质量分数比例进行配料,形成混料;在真空或惰性气体氛围下,对混料进行熔炼并冷却,形成合金锭;在惰性气体氛围下,对合金锭进行粉碎,获得合金粉末;将合金粉末装入包套后进行热等静压处理,获得带包套的靶坯。对所述靶坯利用物理气相沉积法制备薄膜,配合光刻‑剥离工艺或硬掩膜版技术实现薄膜的图形化,上述方法能够制备形成高均匀性、高致密度的合金靶材和薄膜。 |
申请公布号 |
CN106591790A |
申请公布日期 |
2017.04.26 |
申请号 |
CN201611232165.7 |
申请日期 |
2016.12.28 |
申请人 |
杭州大立微电子有限公司 |
发明人 |
庄玉召;王景道;钱良山;姜利军 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I;C23C14/30(2006.01)I;C22C16/00(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 |
代理人 |
孙佳胤 |
主权项 |
一种靶材制备方法,其特征在于,包括:在惰性气体氛围下,按照靶材各组分质量分数比例进行配料,形成混料;在真空或惰性气体氛围下,对混料进行熔炼并冷却,形成合金锭;在惰性气体氛围下,对合金锭进行粉碎,获得合金粉末;将合金粉末装入包套后进行热等静压处理,获得带包套的靶坯。 |
地址 |
310053 浙江省杭州市滨江区滨康路639号二区2402室 |