发明名称 靶材制备方法和吸气剂薄膜形成方法
摘要 一种靶材制备方法和吸气剂薄膜形成方法,所述靶材制备方法包括:在惰性气体氛围下,按照靶材各组分质量分数比例进行配料,形成混料;在真空或惰性气体氛围下,对混料进行熔炼并冷却,形成合金锭;在惰性气体氛围下,对合金锭进行粉碎,获得合金粉末;将合金粉末装入包套后进行热等静压处理,获得带包套的靶坯。对所述靶坯利用物理气相沉积法制备薄膜,配合光刻‑剥离工艺或硬掩膜版技术实现薄膜的图形化,上述方法能够制备形成高均匀性、高致密度的合金靶材和薄膜。
申请公布号 CN106591790A 申请公布日期 2017.04.26
申请号 CN201611232165.7 申请日期 2016.12.28
申请人 杭州大立微电子有限公司 发明人 庄玉召;王景道;钱良山;姜利军
分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/30(2006.01)I;C22C16/00(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人 孙佳胤
主权项 一种靶材制备方法,其特征在于,包括:在惰性气体氛围下,按照靶材各组分质量分数比例进行配料,形成混料;在真空或惰性气体氛围下,对混料进行熔炼并冷却,形成合金锭;在惰性气体氛围下,对合金锭进行粉碎,获得合金粉末;将合金粉末装入包套后进行热等静压处理,获得带包套的靶坯。
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