发明名称 一种J‑TEXT托卡马克装置杂质粒子浓度测量系统
摘要 本发明公开了一种J‑TEXT托卡马克装置杂质粒子浓度测量系统,包括X射线光路模块,X射线探测模块,脉冲整形放大模块以及MCA数据处理模块;托卡马克装置运行破裂时,通过注入杂质气体抑制高能高速逃逸电子,杂质粒子会发生辐射,通过测量杂质辐射强度来标定杂质浓度;由于辐射能量脉冲信号微弱,通过高灵敏度的探测器来探测脉冲信号并通过高增益的脉冲整形放大模块对其进行整形放大;输出幅值放大了的电压脉冲信号;MCA数据处理模块根据采集到的电压脉冲信号进行能谱分析;由于不同杂质的辐射脉冲峰值不同,根据能谱来确定各种杂质的浓度。
申请公布号 CN106597519A 申请公布日期 2017.04.26
申请号 CN201611069713.9 申请日期 2016.11.29
申请人 华中科技大学 发明人 陈忠勇;高海龙;徐涛
分类号 G01T1/36(2006.01)I 主分类号 G01T1/36(2006.01)I
代理机构 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 代理人 方可
主权项 一种J‑TEXT托卡马克装置杂质粒子浓度测量系统,其特征在于,包括依次连接的射线光路模块,射线探测模块,脉冲整形放大模块,以及MCA数据处理模块;所述射线光路模块为机械通道,用于传输射线;所述射线探测模块用于探测杂质粒子辐射X射线,并将光信号转换成电压信号;所述脉冲信号整形放大模块用于对射线探测模块输出的、脉宽在微秒级别的微弱脉冲信号进行放大;所述MCA数据处理模块用于采用基于相位补偿的脉冲信号峰值检测方法,根据脉冲信号整形放大模块的输出信号进行能谱分析,根据杂质与辐射脉冲峰值的对应关系确定杂质粒子浓度。
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