| 发明名称 | 一种硅料浮选清洗的方法 | ||
| 摘要 | 本申请公开了一种硅料浮选清洗的方法，包括：清洗硅料表面的沾污杂质；在与水平方向呈预设角度的水槽中加满水，并在所述水槽底部的位于水面以上预设距离的位置持续加水；将所述硅料放入所述水面与加水位置之间的水槽底部位置，使所述硅料随水流向下漂浮在水面上，与下沉的颗粒杂质分离；从水面上收集漂浮的所述硅料。本申请提供的上述硅料浮选清洗的方法，投入成本低，增强对杂质的去除效果，工艺流程简单，而且化学品用量少，对环境污染小。 | ||
| 申请公布号 | CN106583053A | 申请公布日期 | 2017.04.26 |
| 申请号 | CN201611190987.3 | 申请日期 | 2016.12.21 |
| 申请人 | 晶科能源有限公司;浙江晶科能源有限公司 | 发明人 | 周海龙;邱建峰;王义斌;周慧敏;徐志群 |
| 分类号 | B03D1/002(2006.01)I | 主分类号 | B03D1/002(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 罗满 |
| 主权项 | 一种硅料浮选清洗的方法，其特征在于，包括：清洗硅料表面的沾污杂质；在与水平方向呈预设角度的水槽中加满水，并在所述水槽底部的位于水面以上预设距离的位置持续加水；将所述硅料放入所述水面与加水位置之间的水槽底部位置，使所述硅料随水流向下漂浮在水面上，与下沉的颗粒杂质分离；从水面上收集漂浮的所述硅料。 | ||
| 地址 | 334100 江西省上饶市经济开发区晶科大道1号 | ||