发明名称 一种电磁屏蔽膜及其制备方法
摘要 本发明涉及一种电磁屏蔽膜,所述电磁屏蔽膜包括依次连接的离型膜(1)、导电胶层(2)、金属层(3)、绝缘层(4)以及载体膜(5),所述金属层(3)中包括金属粒子,所述金属粒子为具有规则几何形状且有序排列的金属粒子。所述电磁屏蔽膜金属层与导电胶层接触充分,导通值低,电磁屏蔽性能好。同时本发明还提供了所述电磁屏蔽膜的制备方法,所述制备方法工艺简单,有利于进行工业化生产。
申请公布号 CN106604623A 申请公布日期 2017.04.26
申请号 CN201611146226.8 申请日期 2016.12.13
申请人 苏州城邦达力材料科技有限公司 发明人 闫勇;高小君
分类号 H05K9/00(2006.01)I;B32B7/06(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;B32B27/08(2006.01)I;B32B27/28(2006.01)I;B32B27/30(2006.01)I;B32B27/32(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I;B05D7/04(2006.01)I 主分类号 H05K9/00(2006.01)I
代理机构 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人 巩克栋;侯桂丽
主权项 一种电磁屏蔽膜,其特征在于,所述电磁屏蔽膜包括依次连接的离型膜(1)、导电胶层(2)、金属层(3)、绝缘层(4)以及载体膜(5),所述金属层(3)中包括金属粒子,所述金属粒子为具有规则几何形状且有序排列的金属粒子。
地址 215300 江苏省苏州市昆山市巴城镇东平路399号