发明名称 一种卟啉忆阻器及其制备方法
摘要 本发明公开了一种卟啉忆阻器,该卟啉忆阻器为阳极、阻变层、阴极的三层结构,阻变层位于阳极和阴极的中间,其包含卟啉作为活性薄膜层,该活性薄膜层提供传输电子和离子的双重功能,阻变层还包括氧化物缓冲层,以提供离子源。本发明还提出一种制备上述卟啉忆阻器的方法,包括以下步骤:首先制备所述阳极,然后在阳极上制备阻变层,随后在阻变层上制备阴极,氧化物缓冲层通过低真空度原位方法形成,以提高所述阻变层的质量,保证含氧量低于整数比。本发明具有适合柔性器件、可以实现大面积、低成本制作等优点。本发明的卟啉忆阻器是由真空蒸镀制备得到,具有易于设计,工艺简单,器件产率高、输出可重复性、性能稳定以及抗饱和能力强等优势。
申请公布号 CN106601909A 申请公布日期 2017.04.26
申请号 CN201611186337.1 申请日期 2016.12.20
申请人 南京邮电大学 发明人 黄维;仪明东;朱颖;王智勇;王来源;解令海
分类号 H01L45/00(2006.01)I 主分类号 H01L45/00(2006.01)I
代理机构 南京知识律师事务所 32207 代理人 李湘群
主权项 一种卟啉忆阻器,其特征在于卟啉忆阻器为阳极、阻变层、阴极的三层结构,所述阻变层位于阳极和阴极的中间,其包含卟啉作为活性薄膜层,该活性薄膜层提供传输电子和离子的双重功能,阻变层还包括氧化物缓冲层,以提供离子源。
地址 210023 江苏省南京市栖霞区亚东新城区文苑路9号