| 发明名称 | 一种显影装置及显影方法、曝光装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种显影装置，包括箱体和显影液，所述显影液盛放在所述箱体内，其特征在于，所述箱体包括内壁，所述内壁上设置有缓冲膜，所述缓冲膜能够调节所述显影液的浓度。该缓冲膜解决显影系统中光刻胶浓度不稳定对显影液显影能力的影响；并且能够减少显影液的使用量，节约成本。 | ||
| 申请公布号 | CN104898381B | 申请公布日期 | 2017.04.26 |
| 申请号 | CN201510358739.4 | 申请日期 | 2015.06.25 |
| 申请人 | 上海天马有机发光显示技术有限公司;天马微电子股份有限公司 | 发明人 | 姚宇环 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人 | 孟金喆 |
| 主权项 | 一种显影装置，包括箱体和显影液，所述显影液盛放在所述箱体内，其特征在于，所述箱体包括内壁，所述内壁上设置有缓冲膜，所述显影液包括光刻胶，所述缓冲膜能够调节所述显影液中光刻胶的浓度。 | ||
| 地址 | 201201 上海市浦东新区汇庆路889号 | ||