| 发明名称 | 一种产生均匀、稳定射流等离子体的装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种产生均匀、稳定射流等离子体的装置。所述装置包括高压电极、地电极、气室、通气管，所述高压电极置于所述通气管内，地电极设置于通气管的外表面；工作时，高压电极和地电极之间施加有高压，形成等离子体放电区域；给料气体由气室通过通气管到达上述等离子体放电区域，并将产生的等离子体以射流的形式作用到被处理物。所述装置还可包括流量控制器对给料气体的成分和流速进行控制，并可在高压电极尖端设置绝缘层；能够产生稳定、均匀、活性粒子强度较高的射流等离子体，并降低放电电压、提高安全性，更加适用于生物医学、材料表面处理、环境保护等多个应用领域。 | ||
| 申请公布号 | CN106572586A | 申请公布日期 | 2017.04.19 |
| 申请号 | CN201610972251.5 | 申请日期 | 2016.11.04 |
| 申请人 | 西安交通大学 | 发明人 | 刘定新;张治权;刘志杰;王小华;孔刚玉 |
| 分类号 | H05H1/26(2006.01)I;H05H1/24(2006.01)I | 主分类号 | H05H1/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京华创博为知识产权代理有限公司 11551 | 代理人 | 张波涛;管莹 |
| 主权项 | 一种产生均匀、稳定射流等离子体的装置，其特征在于：所述装置包括高压电极(101)、地电极(102)、气室(105)、通气管(104)；其中，所述高压电极(101)置于所述通气管(104)内，地电极(102)设置于通气管(104)的外表面；工作时，高压电极(101)和地电极(102)之间施加有高压，形成等离子体放电区域；所述气室(105)连接通气管(104)一端，用于储存并向通气管(104)注入放电所需的给料气体；所述给料气体由气室(105)通过通气管(104)到达上述等离子体放电区域，并将产生的等离子体以射流的形式作用到被处理物。 | ||
| 地址 | 710049 陕西省西安市咸宁西路28号 | ||