一种光刻装置和方法

摘要

本发明提供一种光刻装置和方法，在照明系统与掩膜板之间增设照明切换机构，在对准时，将照明切换机构中的照明光机结构放置于照明系统下方，将照明光经过衰减后输出并被分光后只照射对准标记，并与基准标记对准；在曝光时，将照明切换机构中的遮光板放置于照明系统下方，使得照明光只照射掩膜板上曝光图形区域，避免曝光后在硅片上留下对准标记的图形。此外采用几种视场共有叠加区域的边长作为照明光机结构入光孔径的最大边长，保证了在不同视场下，不会因为光线过于杂散导致照射至掩膜板非曝光图形区域。因此本发明使得对准与曝光均采用同一照明光源，且能够兼容不同视场大小的工艺需求，达到减少工时、人力、节约成本的目的。

主权项

一种光刻装置，从上至下依次包括：照明系统、掩膜板、投影物镜、工件台基准板、工件台以及对准传感器，所述掩膜板放置在掩膜台上，所述掩膜板上设置有对准标记，所述对准标记位于掩膜板曝光图形区域两侧，所述工件台上还承载硅片，所述工件台基准板上设置有基准标记，其特征在于，所述照明系统与所述掩膜板之间还设置有照明切换机构，在对准时通过调整所述照明切换机构使所述照明系统提供的照明光源只照射对准标记，而在曝光时通过调整照明切换机构使照明光源只照射曝光图形区域。