发明名称 超长光纤光栅刻写在线监测系统及方法
摘要 本发明涉及一种超长光纤光栅刻写在线监测系统,它的第一显微镜和第二显微镜用于观测光纤光栅刻写装置中被刻写光栅曝光区域与掩膜板的之间是否平行,拉力计用于对被刻写光栅曝光区域的两端提供预设的拉力,第一水平仪和第二水平仪用于监测对被刻写光栅曝光区域的两端是否在同一水平面上;所述调谐光源的光信号输出端连接第一耦合器,第一耦合器的第一信号输出端连接环形器,环形器连接光纤光栅刻写装置中的被刻写光纤的端部,环形器连接第二耦合器的第一输入端,第一耦合器的第二输出端连接第二耦合器的第二输入端,第二耦合器的输出端连接光电探测器的光信号输入端。利用本发明制作的光栅精度好、光栅谱形好、一致性高。
申请公布号 CN106568382A 申请公布日期 2017.04.19
申请号 CN201610998200.X 申请日期 2016.11.14
申请人 武汉理工大学 发明人 桂鑫;李政颖;王洪海;王凡;王一鸣;张纯;曾思悦
分类号 G01B11/00(2006.01)I;G01B9/02(2006.01)I 主分类号 G01B11/00(2006.01)I
代理机构 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 代理人 潘杰;李满
主权项 一种超长光纤光栅刻写在线监测系统,其特征在于,它包括第一显微镜(1.1)、第二显微镜(1.2)、拉力计(2)、第一水平仪(4.1)、第二水平仪(4.2)、OFDR检测器(8),所述OFDR检测器(8)包括可调谐光源(8.1)、第一耦合器(8.2)、环形器(8.3)、第二耦合器(8.4)和光电探测器(8.5),其中,所述第一显微镜(1.1)和第二显微镜(1.2)的镜头分别对准光纤光栅刻写装置中被刻写光栅(9)的曝光区域的两端,第一显微镜(1.1)和第二显微镜(1.2)用于观测光纤光栅刻写装置中被刻写光栅(9)曝光区域与掩膜板的之间是否平行,所述拉力计(2)用于对被刻写光栅(9)曝光区域的两端提供预设的拉力,并检测被刻写光栅(9)曝光区域两端的拉力值,第一水平仪(4.1)设置在光纤光栅刻写装置的第一光纤夹具(3.1)上,第二水平仪(4.2)设置在光纤光栅刻写装置的第二光纤夹具(3.2)上,第一水平仪(4.1)和第二水平仪(4.2)用于监测被刻写光栅(9)曝光区域的两端是否在同一水平面上,第一光纤夹具(3.1)和第二光纤夹具(3.2)用于对被刻写光栅(9)曝光区域的两端进行夹持;所述可调谐光源(8.1)的光信号输出端连接第一耦合器(8.2)的信号输入端,第一耦合器(8.2)的第一信号输出端连接环形器(8.3)的第一光通信端,环形器(8.3)的第二通信端连接光纤光栅刻写装置中的被刻写光纤(5)的端部,环形器(8.3)的第三通信端连接第二耦合器(8.4)的第一输入端,第一耦合器(8.2)的第二输出端连接第二耦合器(8.4)的第二输入端,第二耦合器(8.4)的输出端连接光电探测器(8.5)的光信号输入端;所述可调谐光源(8.1)的光信号输出端用于输出线性扫频且光强恒定的连续光。
地址 430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号
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