| 发明名称 | 涂布方法、涂布设备及发光器件 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种涂布方法、涂布设备及发光器件。该涂布方法包括：确定微针冒出的液滴的最下端到达第一位置则控制供液装置停止给微针供液；确定微针的端部到基板的距离达到第二距离，其中，第二距离为预先设置的；控制供液装置继续供液，并控制微针相对于基板运动而涂布图案。通过本发明提供了一种较优的图案形成方案，从而避免了采用现有技术中的喷墨打印设备容易造成喷嘴极易堵塞的技术问题。 | ||
| 申请公布号 | CN106564315A | 申请公布日期 | 2017.04.19 |
| 申请号 | CN201610919798.9 | 申请日期 | 2016.10.21 |
| 申请人 | 纳晶科技股份有限公司 | 发明人 | 顾辛艳 |
| 分类号 | B41M5/00(2006.01)I;B41J2/04(2006.01)I;H01L51/00(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I | 主分类号 | B41M5/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 赵囡囡;吴贵明 |
| 主权项 | 一种涂布方法，其特征在于，包括：确定微针(40)冒出的液滴(50)的最下端到达第一位置则控制供液装置停止给所述微针(40)供液；确定所述微针(40)的端部到基板(20)的距离达到第二距离，其中，所述第二距离为预先设置的；控制所述供液装置继续供液，并控制所述微针(40)相对于所述基板(20)运动而涂布图案。 | ||
| 地址 | 310052 浙江省杭州市滨江区秋溢路500号1幢4楼405-407室 | ||